一種納米晶-非晶雙相複合塗層及其製備方法

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簡介

本創新涉及一種金屬材料及其製備方法,通過磁控濺射過程一次性沉積金屬塗層。塗層厚度可在0.5~50微米範圍調節,20釐米×30釐米大面積的鍍膜均勻區拓寬了該塗層的工業應用。

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商品化機會
可展示完整的試驗系統
解決方案

由於反霍爾-佩奇效應以及形變過程中剪切帶的軟化效應,單相納米晶合金和單相金屬玻璃通常在小於2 %的應變下發生軟化,能承受的最大應力約為E/85~E/50。因此,這些材料的強度很難達到E/20的理論強度值。

創新技術
  • 本創新為一種原位形成的具有非晶-納米晶雙相結構的鎂基合金,其3.3 GPa的超高強度是至今報導的最強鎂合金的3倍,達到理論強度值,並打破常溫下材料的尺寸效應。
  • 這種納米雙相-玻璃納米晶材料可以製備成100毫米x 100 毫米x 10 微米以上的尺寸,這要大於傳統的近乎理想強度的材料。因此,有利於該材料在大面積上作為塗層的應用。
  • 通過調節磁控濺射的工藝參數,這種創新的製備方法容易控制納米晶-非晶雙相(NDP-GC)結構的成分和塗層厚度,從而拓寬這種具有理論強度的材料在金屬薄膜領域的應用。
主要成效
  • 納米材料的大面積應用
  • 容易控制納米晶-非晶雙相(NDP-GC)結構材料的成分和塗層厚度
  • 拓寬了具有理論強度的材料在金屬薄膜領域的應用
  • 性能優異的可生物降解材料,可用於生物植入體;具有優異的力學性能,可用作其它輕質材料
獎項
  • 該研究成果作為封面文章在《自然》雜誌上發表(2017年)
應用範疇
  • 用於筆記型電腦、智能手機、柔性電子產品的耐磨表面塗層
  • 高強度的微機電系統器件
  • 3D打印結構
  • 用於骨科手術的鎂基植入體

專利申請

  • 美國專利:US 10,895,006
  • 美國專利:US10,428,418
  • 美國專利:US 11,168,401
香港城市大學

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