同軸線掃共焦技術用於半導體檢測

簡介

高速高分辨同軸線掃共焦系統，用於半導體和電子工業檢測。該系統提供高達0.5μm解析度、超過10:1的縱橫比（孔深度:孔徑)以及高達1萬線/秒的掃描速度，解決了傳統檢測方法的不足。

商品化機會

智慧財產權許可，技術共同開發，合同研究

解決方案

摩爾定律和半導體工藝接近極限，先進封裝顯著影響晶片性能。傳統線上半導體檢測方法存在掃描速度慢、無法測量微小結構或僅能檢測有限缺陷等問題。這款同軸線掃共焦系統可以有效解決這些問題。

創新技術

同軸遠心光路設計使系統能夠測量的高寬比可達8:1-18:1及以上。
硬體加速嵌入式系統的實現，使線掃描速度達到10000線/秒及以上。
針對透明物體的多層介面反射問題，開發了多層演算法和小波變換演算法，從而能夠清晰地獲取各層的三維點雲。

主要成效

可測量高達 8:1-18:1 或以上的高寬比
掃描速度高達 10,000 線/秒或以上
解析度高達 0.5μm（沿深度方向）
可檢測晶圓凸塊、重分佈層和矽通孔等各種特徵

獎項

第48屆日內瓦國際發明展銀獎
2023-2024香港工商業獎：設備及機械設計獎

應用範疇

半導體先進封裝線上檢測：該技術滿足晶圓凸塊、重分佈層和矽通孔等元件日益增長的檢測需求。
電子及先進製造領域線上檢測：包括PCB 基板、銅基板、深孔、多層透明物體、手機蓋板玻璃等。

專利申請

美國專利號：11,287,626
美國專利申請號：19/096,181

香港應用科技研究院

香港應用科技研究院（應科院）於2000年由香港特別行政區政府成立。作為香港最大的政府資助研發中心，應科院不僅是推動科技進步的重要力量，更擔當促進香港、大灣區以至全球創新生態圈發展的「超級聯繫人」角色。應科院在與納米及先進材料研發院（NAMI）合併後，此角色進一步得以強化。

應科院積極推動跨學科、市場導向的研發，致力將具重大影響力的科研成果從實驗室推向市場應用，為業界帶來實用的創新科技，並為社會創造經濟效益。憑藉其科技優勢及實力，應科院在多個領域提供以人工智能驅動的跨學科資訊及通訊科技，以及先進材料解決方案。